一种单层细胞膜修饰的纳米通道材料及其制备方法和应用
点击次数：
发布时间：2025-10-22
所属单位：中国地址大学（武汉）
学校署名：中国地址大学（武汉）
申请专利人：娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
发明设计人：娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
专利类型：发明
专利状态：待批专利
申请号：202510515329X
发明人数：4
是否职务专利：否
第一作者：娄筱叮
博士生导师
学术荣誉:
国家优秀青年基金获得者,2017
“973计划”项目及项目首席科学家,2020
性别：女
出生年月：1985-08-01
学历：博士研究生毕业
学位：博士学位
在职信息：在岗
所在单位：化学系
入职时间：2017-03-01
学科：化学
一种单层细胞膜修饰的纳米通道材料及其制备方法和应用
点击次数：
发布时间：2025-10-22
所属单位：中国地址大学（武汉）
学校署名：中国地址大学（武汉）
申请专利人：娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
发明设计人：娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
专利类型：发明
专利状态：待批专利
申请号：202510515329X
发明人数：4
是否职务专利：否
第一作者：娄筱叮