一种单层细胞膜修饰的纳米通道材料及其制备方法和应用
点击量 ：
申请专利人 ： 娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
作者 ： 娄筱叮
发明设计人 ： 娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
所属单位 ： 中国地址大学（武汉）
专利类型 ： 发明
学校署名 ： 中国地址大学（武汉）
申请号 ： 202510515329X
是否职务专利 ： 否
专利状态 ： 待批专利
发明人数 ： 4
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一种单层细胞膜修饰的纳米通道材料及其制备方法和应用
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申请专利人 ： 娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
作者 ： 娄筱叮
发明设计人 ： 娄筱叮、夏帆、胡宇昕、王全
所属单位 ： 中国地址大学（武汉）
专利类型 ： 发明
学校署名 ： 中国地址大学（武汉）
申请号 ： 202510515329X
是否职务专利 ： 否
专利状态 ： 待批专利
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